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中微5nm蚀刻机成了,台积电已验收,纯国产纯自主研发

中微5nm蚀刻机成了,台积电已验收,纯国产纯自主研发 

        众所周知,半导体工艺是一项集大成的高精密科技,制成越高工艺也就越高,从65nm到32nm再到如今的10nm,因为制成难度问题淘汰掉了很多半导体企业,还在为更高制成研发的半导体企业也很少。

        近日,国产中微传来喜讯,旗下5nm等离子体蚀刻机通过了台积电的验证,未来台积电生产5nm制成将会用到由中微提供的蚀刻机,该蚀刻机由国产中微完全自主研发,可喜可贺。

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1、中微成立于2004年,在半导体行业小有名气

        中微在半导体行业算是小有名气了,该公司有多位留美归国博士所创立,成立于2004年11月,总投资5亿元,对于此次成功研发出5nm蚀刻机,中微半导体CEO尹志尧表示:在米粒上刻字的微雕技艺上,一般能刻200个字已经是极限,而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺,相当于可以在米粒上刻10亿个字的水平。

2、5nm蚀刻机成了,不代表可以量产5nm芯片

        不过需要注意的是,中微搞定了5nm蚀刻机并不代表台积电就可以直接用来生产5nm制成了,因为蚀刻机只是众多工艺中的一个环节而已,而重要的光刻机,台积电仍然需要从荷兰ASML进口。

3、国产的自主光刻机仅可生产90nm工艺

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        所以说,我国半导体行业和世界大厂之间的差距还是很大的,尤其是重要的光刻机,国内做光刻机好的是上海微电子,但可惜微电子也仅能生产90nm,但令我们欣慰的是,国内有很多像中微这样的半导体企业在不断努力,差距也在不断缩小。

        对于像中微这样的企业我们应该给予鼓励和支持,完全的自主研发,不采用任何架构,希望中微再接再厉,可以在半导体行业占据一席之地。




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