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成都将建成中国掩膜板制造基地,掩膜板的需求为何越来越大?

作者: 编辑: 来源: 发布日期: 2018.09.07
信息摘要:
近日,位于成都高新区的成都路维G11掩膜板生产线主体厂房顺利封顶。该项目是中国首条G11掩膜板项目,即将进入厂房净化装修阶段,预计9月份主设…

近日,位于成都高新区的成都路维G11掩膜生产线主体厂房顺利封顶。该项目是中国首条G11 掩膜项目,即将进入厂房净化装修阶段,预计9月份主设备进厂安装调试,四季度投产。该项目总投资10亿元,并打破中国光 掩膜长期以来依赖进口的局面。

什么是掩膜版?就好比以前相机冲印照片都要用底片,掩膜的重要性就相当于显示面板的底片。掩膜版是在含有铬等金属薄膜的玻璃基板上,形成复杂几何图形的图形转移板。例如在TFT-LCD等高端面板的曝光制程中,利用掩膜版以及曝光的手段就能够在玻璃等基板上形成线路。

成都将建成中国最大掩膜板制造基地,掩膜板的需求为何越来越大?

掩膜蚀刻优点:

1、改变了机械加工金属零件使用车、冲等传统方式;

2、对各种金属、合金、不锈钢平面零件的精细加工,大到传统行业设备使用的大面积微孔滤网,小到眼睛几乎很难以分辨的细微零件;

3、生产过程无外力冲击、不变形、平整度好;生产周期短、应变快、不需模具的设计、制造;产品无毛刺、无凸起、两面一样光、一样平;

4、按图红加工平面凹凸型的金属材料制品,如:文字、数字及复杂图型、图案。制造各种精密的,任意形状的通孔零件。

成都将建成中国最大掩膜板制造基地,掩膜板的需求为何越来越大?

掩膜产品可以应用于电子束蒸发,热蒸发,磁控溅射等设备中,用来制备太阳能电池,光电探测器,LED,激光器,场效应晶体管等各种器件电极及各种薄膜材料图形设计。

我们已与北京大学,清华大学,中科院苏州纳米所,兰州物化的,合肥物质所,武汉大学,华中科技大学,中科院昆明植物研究所,北京航空航天大学,山东大学,浙江大学,吉林大学,华南理工,中山大学,东南大学,苏州大学,太原理工大学等众多高校和科研院所以及高技术企业形成了长期合作关系,积累了丰富的设计和制备经验,具备诸多优势。

在材质的选取方面,我们选用高韧性的SUS304 H不锈钢材料,这样做出来的掩膜不但精度高,而且表面光滑,产品不易受弯折而变形,经久耐用,同时还能够让 掩膜与器件保持很紧密的贴合,减少阴影效果。

我们所采用的不锈钢厚度包括0.03mm,0.05mm,0.06mm,0.08mm到1 mm的各种尺寸,采用较薄的不锈钢制备出来的掩膜版所产生的阴影效果会更少,扰度更可控。

卓力达公司的掩膜制备工艺主要采用曝光腐蚀工艺(与光刻法在硅表面制备高精度的图案类似),这种方法可以根据客户要求灵活设计各种图案,且制备出来的图案尺寸标准。我们的 掩膜蚀刻图案尺寸精度可以达到0.01mm以上,边缘锐利无毛刺,开孔直线度好,真圆度好。

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