产品介绍

产品名称:

掩膜片

产品简介:

掩膜片（Photomask）是微电子制造和精密加工中的关键元件，主要用于光刻工艺中传递图形到硅片或其他基材上。它由高纯度的石英或玻璃基板制成，表面镀有铬等金属薄膜，并通过精密曝光和蚀刻技术形成特定电路或微纳结构图案。在半导体、显示面板、PCB等领域，掩膜片作为“模板”，直接决定最终产品的精度和性能。随着制程技术向更小节点发展（如7nm、5nm），掩膜片的复杂度和精度要求日益提升，成为高端制造的核心耗材之一。

产品用途:

掩膜片  主要应用于半导体制造、显示面板（如LCD/OLED）、印刷电路板（ PCB）、微机电系统（MEMS ）及精密光学元件等行业，是光刻工艺中的核心图形转移载体。

工艺流程：

需要焊接的工件对位预固定-进炉-加压-抽真空-升温-保压-降温-出炉-检验-复合要求出货

我们的优势

1、截止2025年我们在蚀刻领域从业20余年，2015年公司又斥资在南通新建产业园，借鉴深圳和昆山分公司的成功经验，致力于中高端市场 掩膜片 产品的技术创新、研发、生产 和销售。 立志成为蚀刻行业的百年企业！

2、卓力达掩膜片采用激光直写和电子束光刻技术，确保微米级甚至纳米级图形的高精度复现。我们严格把控线宽均匀性和边缘清晰度，使产品适用于半导体、高分辨率显示面板等对精度要求极高的领域。凭借自主优化的光学校正技术，我们能够有效减少光学邻近效应，确保图形转移的准确性，助力客户提升产品良率。

3、我们精选高纯度石英和特种金属镀层，确保掩膜片在高温、高湿及强光照射环境下仍保持尺寸稳定性和耐久性。卓力达的镀铬工艺使膜层附着力更强，抗氧化性能优异，大幅延长掩膜片的使用寿命，减少客户因频繁更换带来的成本损耗。

4、卓力达拥有成熟的掩膜片设计团队，可根据客户需求提供个性化的解决方案，包括特殊图形设计、相位调整（PSM）、OPC（光学邻近校正）等。无论是小批量试产还是大规模量产，我们都能快速响应，满足不同行业客户的差异化需求。    

5、从基材筛选到最终出货，卓力达执行全流程质量管控，确保每一片掩膜片均符合行业高标准。我们采用高精度检测设备（如AOI、CD-SEM）对图形完整性、线宽精度及缺陷率进行严格筛查，确保产品零瑕疵交付，帮助客户减少生产风险。